Toode

Puhutud süsteem

Kirjeldus ja eelised

Xh - 1193

HCFC - 141b, H2O, madal fluor

Soovitage formuleerida kõrge survetugevuse, FR -vahu ja jalatsite süsteem.

Xh - 1360

n - pentane

Pakuge head ühilduvust.

Xh - 1544

C5

Pakuge suurepärast survetugevust ja mõõtmete stabiilsust.

Xh - 1550

C5

Tagab emulgeerimise ja tuuma moodustamise suure tasakaalu ning hoidke suurepärase voolavuse

Xh - 1690

C5, HFC

Pakkuge head stabiilsust

Xh - 1625

C5, HFC, HFO

Tagada madal k tegur

Xh - 1613

C5, HFC, HFO

Rakkude struktuuri parandamine

XH - 1698

C5

Üldotstarbeline väga peen raku struktuur ja suurepärane emulgeerimine

Xh - 1686

C5

Pakkuge raku peenstruktuuri ja mõõtmete stabiilsust

Xh - 1685

C5

Pakuge regulaarset raku struktuuri ja mõõtmete stabiilsust

Xh - 1688

C5

Eriti sobib kulude jaoks - Tõhus seadme, päikeseenergia ja sügavkülmik.

Xh - 1790

Vesi

Pakkuge hea voolavus, peenraku struktuur ja mõõtmete stabiilsus

Xh - 1847

C5

Sobiv PIR -paneelide jaoks ja madala pindpinevusega ja vähendage pinnamulli.